ASML二手光刻机 TWINSCAN AT:850B

2001年12月5日，ASML推出了业界第一款具有110nm分辨率的KrF (248 nm) Step & Scan 300mm 双工件台光刻系统。

TWINSCAN AT:850B光刻机采用Carl Zeiss Starlith 850高级投影光学器件，数值孔径 (NA)为0.80，属当时业绩最高。

AT:850B光刻机具有行业领先的每小时95片(300 mm晶圆)的吞吐量，是 ASML 的 TWINSCAN双工件台300毫米光刻平台的最新成员。

由于两个工件台同时工作，该平台允许在另一个晶圆曝光的同时进行晶圆对准和调平，从而大大提高了生产力和准确性。

对准和调平台与曝光操作的分离实际上消除了非生产性开销时间，同时确保了制造精度。

ASML AT:850B 将成为一个大批量生产系统，用于广泛的设备制造，包括110nm 及以下设计规则的非常先进的存储器和逻辑生产。